双面oled透明屏-金硕智能-平顶山oled透明屏

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对于中国OLED面板所所面临的问题

OLED良率低

目前，对于中国OLED面板企业来说，关键的就是提升良品率和产能快速爬坡。

中国面板企业此前并没有*6代AMOLED生产线的生产经验，要短时间内快速提升良率并不容易。三星Display从实验线到*6代AMOLED生产线量产，经过10年以上的大量技术积累。中国发展OLED面板基本是跟随三星的技术路线，所以可能不需要那么长的时间，但是要实现较高的良品率仍比较吃力。

再者，OLED的产业环境与当年LCD的大为不同，当年中国进入LCD领域的时候，LCD技术较为成熟，LCD技术经验和商业机i密都掌握在材料和设备厂商手中，但是OLED相关量产经验被三星严格封i锁，甚至连三星配套企业佳能Tokki也不一定了解相关量产技术。

总之，中国OLED面板企业在OLED开发、制造工艺和产品良率等方面存在风险。其中柔性OLED产业**均处于前期阶段，许多技术和工艺还有待完善。

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OLED的元件制作

在两层元件中，n型**材料-即电子传输层-亦同时被当作发光层，触摸oled透明屏，其发光波长系由HOMO及LUMO之能量差所决定。然而，好的电子传输层-即电子迁移率高之材料-并不一定为放光效率佳之材料，因此目**般之做法，系将高萤光度的**色料，掺杂(Doped)于电子传输层中靠近空穴传输层之部分，又称为发光层，其体积比约为1%至3%。掺杂技术开发系用于增强原材料之萤光**吸收率的重点技术，一般所选择的材料为萤光**吸收率高的染料。

阴极之金属材料，传统上系使用低功函数之金属材料(或合金)，如镁合金，以利电子由阴极注入至电子传输层，此外一种普遍之做法，系导入一层电子注入层，其构成为一较薄之低功函数金属卤化物或氧化物，如LiF或Li2O，此可大幅降低阴极与电子传输层之能障，双面oled透明屏，降低驱动电压。

由于空穴传输层材料之HOMO值与ITO仍有差距，此外ITO阳极在长时间操作后，有可能释放出氧气，并破坏**层产生暗点。故在ITO及空穴传输层之间，插入一空穴注入层，其HOMO值恰介于ITO及空穴传输层之间，有利于空穴注入OLED元件，且其薄膜之特性可阻隔ITO中之氧气进入OLED元件，以延长元件寿命。

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OLED技术原理

OLED是指**半导体材料和**发光材料在电场的驱动下，通过载流子注入和复合导致发光的技术。其原理是用ITO玻璃透明电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层，然后分别迁移到发光层，相遇后形成激子使发光分子激发，后者经过辐射后发出可见光。辐射光可从ITO一侧观察到，金属电极膜同时也起了反射层的作用。

根据使用**功能材料的不同，OLED器件可以分为两大类：小分子器件和高分子器件。小分子OLED技术发展较早(1987年)，平顶山oled透明屏，而且技术已经达到商业化生产水平;高分子OLED又被称为 PLED(Polymer LED)，其发展始于1990年，目前该技术尚未成熟。

根据驱动方式的不同，OLED器件可以分为无源驱动型(又称被动驱动PM，Passive Matrix)和有源驱动型(又称主动驱动AM，Active Matrix)两种。无源驱动型不采用薄膜晶体管( TFT)基板，柔性oled透明屏，一般适用于中小尺寸显示;有源驱动型则采用TFT基板，适用于中大尺寸显示，特别是大尺寸全彩色动态图像的显示。目前，无源驱动型OLED技术已经比较成熟，商业化的产品都是无源驱动型;有源驱动型OLED技术发展很快，但还需要几年的时间才能推出商用产品。